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Hellma氟化鈣LD-A-級CaF? 193nm深紫外光學應用
發布時間： 2026-02-09 點擊次數： 80次Hellma氟化鈣LD-A-級CaF? 193nm深紫外光學應用
在深紫外（DUV）光學檢測、光刻、激光加工、光譜分析等領域，光學窗口、棱鏡、透鏡等核心元件的材料性能直接決定系統的精度與穩定性。德國Hellma Analytics旗下的LD-A-級氟化鈣（CaF?）晶體，針對193nm深紫外波長優化制備工藝，具備極低的深紫外吸收、超高的光學均勻性、優異的熱穩定性與化學惰性，成為193nm波段光學系統的材料。該型號氟化鈣晶體突破了傳統光學材料在深紫外波段的性能瓶頸，其技術優勢在半導體光刻、深紫外光譜分析、激光微加工、環境監測等行業的應用中得到充分驗證，奠定了Hellma在光學晶體領域的地位。
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）核心技術優勢解析
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）作為超高純度氟化鈣晶體的規格，核心優勢體現在光學性能、晶體品質、機械特性、環境適配四大維度，針對193nm深紫外波段的應用痛點形成系統性解決方案：
極低的深紫外吸收，保障193nm波段高透光率
Hellma LD-A-級CaF?晶體采用**真空坩堝下降法（VB法）** 結合區熔提純工藝制備，原料選用99.9999%（6N）超高純氟化鈣，雜質含量（如Fe、Cu、Si、OH?等）控制在ppb級別。在193nm深紫外波段，該晶體的線性吸收系數≤0.001 cm?1，遠低于普通工業級CaF?（吸收系數≥0.01 cm?1），室溫下對193nm波長的透光率≥92%（10mm厚度），且透光率在-50℃~+200℃溫度范圍內波動≤0.5%，無明顯的溫度誘導吸收峰。
同時，晶體經特殊的表面拋光工藝處理，表面粗糙度Ra≤0.5nm，表面平整度≤λ/20（λ=632.8nm），有效降低193nm波段的表面反射損耗，鍍膜后的光學元件反射率可控制在≤0.1%@193nm，大化提升深紫外光的傳輸效率，避免因材料吸收或反射導致的光學系統能量損耗與熱畸變沈陽漢達森yyds吳亞男。
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